低过电位析氧
在金属基底上原位生长的MOF纳米片，具备动态结构重构能力，显著提升析氧反应性能。
王晓 · 周伟 · Zhai, Shengliang · Xiaokang, Chen · 彭蒸 · 刘志 · 邓伟 · 吴昊 · Hao Wu (吴昊)
Angewandte Chemie - International Edition 2024
MOF与金属基底准晶格匹配，确保直接键合和结构稳固。
仅需130 mV过电位即可达到10 mA cm⁻²，优于许多现有催化剂。
在析氧反应中可稳定运行144小时。