自定位单视场偏转测量

无需额外定位设备

通过结合光线追踪与高斯过程回归，实现工件自定位，摆脱对额外定位设施的依赖，大幅简化测量操作并提升实用性与效率。

Chen, Yunuo · 张祥朝 · Lang, Wei · Chen, Ting · Zhifei, Hu · Jiang, Xiangqian

Precision Engineering 2024

参数信息

倾斜定位偏差

8×10⁻⁴ °

平移定位偏差

4 μm

技术优势

无需额外定位设备

通过光线追踪和高斯过程回归直接从采集图像中获得工件位置，摆脱了对额外定位设施的依赖。

精度与三坐标相当

实验表明，自定位精度与坐标测量机相当，满足高精度测量需求。

应用场景

• 光学表面测量：无需额外定位设施即可实现高精度测量，简化操作流程。
• 精密光学制造：提升测量效率与实用性，适合制造环境中的快速检测。
• 在线偏转测量：实现在线测量中的自动定位，减少人工干预。