Z轴抑制MEMS执行器
刚度提升68.5%
通过杆件连接点对抑制共模/差模运动,显著削弱面外位移而不牺牲行程与速度。
尤瑞
Microsystems and Nanoengineering 2025
具体参数
- 静态行程
- {'zh': '60', 'en': '60'} μm
- 动态行程
- {'zh': '400', 'en': '400'} μm
- Z 轴刚度提升
- {'zh': '68.5', 'en': '68.5'} %
技术优势
Z 轴串扰降下来了
通过点对连接抑制差模运动,面外位移被有效削弱,适用于高精度定位。
行程和速度不受影响
在显著提升 Z 轴抑制能力的同时,保持了 ±60 μm 静态和 ±400 μm 动态行程。
Z 轴刚度拉高 68.5%
Z 轴刚度提升幅度是 X/Y 轴的五倍以上,说明抑制结构专门强化了薄弱方向。
设计经过完整闭环验证
经历设计-仿真-制造-测试全流程,并与传统设计对比验证了有效性。
应用场景
- 光学转向:抑制镜面倾斜,光束指向更稳。
- 微纳操作:减少工具头 Z 向漂移,抓放定位更准。
- MEMS扫描:扫描面更平,成像无离焦。