纳米多孔聚硅氧烷

击穿强度提升7.6倍

以纳米孔结构抑制电子雪崩,在CO₂气氛下击穿强度较纯气隙提升761%,且介电常数低至1.63。

Sima, Wenxia · Xiaoxiao, Chen · Sun, Potao · 袁涛 · 杨鸣 · Zhaoping, Li · Tang, Xinyu

Journal of Colloid and Interface Science 2024

具体参数

击穿强度提升
{'zh': '761.01', 'en': '761.01'} %
介电常数
{'zh': '1.63', 'en': '1.63'}
介电损耗
{'zh': '0.014', 'en': '0.014'}

技术优势

击穿强度大幅提升

纳米孔结构限制电子雪崩发展,在CO₂气氛下击穿强度较纯气隙提升761.01%。

低介电常数

介电常数仅1.63,可降低信号延迟和串扰,适用于高频高速应用。

低介电损耗

介电损耗仅0.014,能量耗散小,有利于提高设备效率和稳定性。

环保可降解

采用生物质原料制备聚硅氧烷材料,可减少对化石资源的依赖,且具有高热稳定性和疏水性。

应用场景