类二氧化硅氢分离膜

常压制备

用UV/臭氧在常压空气中处理PDMS，一步形成选择性硅层，免去传统高温与真空工艺。

Qingyue, Yu · Zihui, Huo · 朱彬 · Hongyang, Zhao · Ziyue, Li · Yenie, Lu · Liu, Ning · Yaxin, Huang · Wenji, Guo · Yang, Jiakuan · Huang, Liang

Journal of Membrane Science 2026

具体参数

H₂渗透率

930 GPU

H₂/CO₂选择性

37.3

二氧化硅层厚度

10 nm

处理时间

30 min

水热稳定性测试时间

4 day

高压稳定性测试时间

3 day

技术优势

常压空气制备

在常压空气中用UV/臭氧处理PDMS，无需高温或真空设备，简化工艺。

性能超过聚合物膜

在200 °C下的H₂/CO₂选择性显著优于传统聚合物膜。

湿热稳定性好

在150 °C含1.0 mol%水蒸气的模拟合成气中暴露4天，分离性能保持稳定。

应用场景

• 氢气纯化：在200 °C下高效分离H₂/CO₂，用于工业氢提纯。
• 气体分离膜：常压低温制备的高选择性膜，替代传统高温工艺。
• 合成气处理：耐水蒸气合成气，用于合成气中提氢。