大口径光学表面在位测量

通过灵敏度误差分析与阿贝原则补偿，在研磨阶段即可实现高精度测量，避免离线的三坐标测量，从而大幅提升加工效率。

Li, Zelong · Dai, Yifan · Guan, Chaoliang · Lai, Tao · Hu, Hao · Sun, Zizhou · Wang, Jianpeng

Measurement: Journal of the International Measurement Confederation 2026

参数信息

面形误差（PV）

1.6 μm

面形误差（RMS）

0.2 μm

测量效率提升

50 %

技术优势

精度达标

在直径500 mm非球面上实现PV = 1.6 μm、RMS = 0.2 μm，验证了方法的有效性。

效率提升一半

与三坐标测量机相比，测量效率提高50%，从而提升整体加工效率。

误差来源明确

通过建立灵敏度误差模型识别主要几何误差来源，为补偿提供依据。

不引入额外误差

基于阿贝原则的误差测量与补偿方法确保测量过程中不引入额外阿贝误差。

应用场景

• 精密光学加工：研磨阶段在位测量，避免离线检测导致的反复装夹，提升加工精度与效率。
• 在位测量与补偿：提供高精度在位测量与误差补偿方法，可替代三坐标测量机。
• 机床误差补偿：通过灵敏度分析识别关键几何误差并基于阿贝原则补偿，提升机床固有精度。
• 大口径光学元件：针对大口径光学元件提供简便高效的在位测量方案，验证于500 mm非球面。