Zn-Sb-O相压敏电阻

低温制备高非线性

低温掺杂Zn-Sb-O相避免氧空位减少,提升界面态密度与势垒高度。

Wei, Yanliang · 王凯 · Xuefang, Chen · Xu, Tao · Ruiqing, Chu · 李国荣 · 徐志军

Ceramics International 2024

具体参数

击穿场强(Zn–Sb–O掺杂)
{'zh': '440.24', 'en': '440.24'} V/mm
非线性系数(Zn–Sb–O掺杂)
{'zh': '64', 'en': '64'}

技术优势

击穿场强更低

Zn–Sb–O相掺杂将击穿场强从605.36 V/mm降至440.24 V/mm,使器件更易导通,适用于较低电压等级的保护场景。

非线性更高

Zn–Sb–O相掺杂获得非线性系数α=64,高于Sb2O3掺杂样品,且两者随掺杂量的变化趋势相似,表明该相可更有效提升电学均匀性。

避免氧空位损失

采用预合成的Zn–Sb–O相避免了Sb2O3与Bi2O3的直接反应,从而消除该反应对氧空位浓度的抑制作用,有利于形成界面态。

增强界面态

Zn–Sb–O掺杂有效提高吸附氧浓度,对界面态形成和势垒高度提升产生显著正向作用,从而改善压敏电阻的晶界特性。

应用场景