粗糙度降至4.1 nm
混合激光平坦化与机械化学研磨,实现多晶金刚石表面从微米级快速降至纳米级且亚表面损伤低。
温秋玲 · Jiaxin, Hu · Wei, Fang · Xipeng, Xu · 陆静 · Chunjin, Wang · 胡中伟
Journal of Manufacturing Processes 2026
先用激光将粗糙度从14.88 μm降到5.47 μm,再经机械化学研磨进一步降到4.1 nm,达到纳米级表面。
在3mm×3mm面积上材料去除率达到227.5 μm/min,适合大面积高效粗加工。
利用激光改性层的高可加工性,机械化学研磨前10 min去除率达到366.6 μm/h,粗糙度从5.47 μm降至15.2 nm。
细磨后亚表面损伤由小于5 nm的完全转变层和晶格畸变区组成,远小于常规研磨损伤。