高质子选择性隔膜

自放电抑制4500倍

以石墨炔原位生长的三明治结构实现质子选择性透过,有效抑制活性电解液穿梭效应,大幅延长超级电容器放电时长。

Liang, Na · 吴雪岩 · 张秀丽 · Guo, Renhe · 郭继玺 · 刘辉彪 · 贾殿赠

Chemical Engineering Journal 2025

具体参数

隔膜
4500 倍
比电容
526.6 F g⁻¹