PDAI₂界面钝化层

产线兼容高效率

通过槽模涂布工艺在钙钛矿/C₆₀界面引入PDAI₂钝化层，有效抑制非辐射复合，实现大面积织构硅衬底上的高质量钙钛矿薄膜，叠层电池效率突破31%。

Dongyong, Fan · Longhao, Jisi · 章文峰 · Hu, Xin · Wen, Fang · Wei, Long · 胡逾超 · Zhang, Yifeng · Xing, Guoqiang · Liping, Su · 李海进 · 张文华 · 杨上峰 · 周莹

Chemical Engineering Journal 2026

具体参数

认证效率

{'zh': '30.84', 'en': '30.84'} %

冠军效率

{'zh': '31.57', 'en': '31.57'} %

效率超过30%的器件比例

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模块效率

{'zh': '27.09', 'en': '27.09'} %

模块效率

{'zh': '26.28', 'en': '26.28'} %

技术优势

产线兼容制造

用热蒸发碘化铅骨架加槽模涂布FAI和PDAI₂，完全避开旋涂，可直接用于工业大绒面硅片。

抑制界面复合

PDAI₂层钝化未配位Pb²⁺缺陷并通过强偶极作用均匀覆盖绒面，同时保持高导电性，缺陷形成被抑制。

应用场景

• 钙钛矿叠层电池：用产线兼容工艺和PDAI₂钝化层直接做出高效叠层电池，无需改硅片制程。
• 光伏组件制造：槽模涂布PDAI₂可直接嵌入现有组件产线，替代实验室旋涂步骤。
• 界面缺陷分析：PDAI₂的DFT计算和钝化效果为分析钙钛矿/C₆₀界面缺陷来源提供依据。
• 高效光伏系统：大面积模块效率26%以上，直接提升系统单位面积发电量。