微径管内表面磁流变抛光

粗糙度降68.74%

引入偏度作为补充指标，双目标控制同时降低表面粗糙度和不对称性，优于单一粗糙度优化。

Aiqin, Mao · Ying-tao, Sun · Di, Bian · Li, Zhigang · 周剑锋 · Wu, Liwei

Journal of Magnetism and Magnetic Materials 2026

参数信息

表面粗糙度Sa降低率

68.74 %

表面偏度Ssk变化

79.12 %

最优磁粉体积分数

25 %

最优管件转速

400 rpm

最优磁通密度

260 mT

技术优势

同时优化粗糙度和偏度

引入Ssk作为补充指标，通过双目标优化使表面质量更全面，避免单一优化粗糙度导致的形貌不对称。

找到最优参数组合

通过正交实验和田口分析确定最佳参数：磁粉体积分数25%、转速400 rpm、磁通密度260 mT，可直接用于工艺设置。

优于单一目标优化

验证实验表明，双目标优化后的综合表面质量优于仅优化粗糙度的结果，确保性能提升更均衡。

应用场景

• 精密管件抛光：用于微径管件内表面的高精度抛光，消除工具挠曲和压力不均问题。
• 微细加工：在微细加工场景下提供可控材料去除和表面形貌控制，满足精密零件要求。
• 增材制造后处理：作为增材制造管件的后处理工序，改善表面粗糙度和偏度，符合最终表面规范。
• 微流控通道抛光：用于微流控通道内壁抛光，降低表面粗糙度以减少流动阻力、改善流体行为。