Sb基相变存储介质

242ps极速晶化

一种能实现DRAM级甚至缓存级写入速度的相变存储材料,在极小尺寸下晶化速度突破至242皮秒,为高速存储提供新选择。

Shen, Jiabin · Song, Wenxiong · 任堃 · 宋志棠 · 周鹏 · 朱敏

Advanced Materials 2023

参数信息

晶化速度(60 nm器件)
242 ps
晶化速度(实验单元)
360 ps

技术优势

晶化速度破纪录

60 nm尺寸器件中晶化速度仅为242 ps,是迄今报道的最快相变存储材料,接近速度极限。

器件越小越快

再晶化过程随器件尺寸缩小而加速,这与传统认知相反,意味着微缩制程将进一步缩短写入时间。

架构潜力广

该速度使PCM可进入DRAM甚至缓存的领域,为存内计算等应用提供候选介质。

应用场景