准外延AlScN铁电膜

Yiming, Yang; Li, Zonglin; Zhang, Tao; Guo, Xiaoyan; Yifeng, Du; Jingrui, Cui; Zhu, Yu; Shi, Run; Li, Chao; Ma, Jing; Nan, Tianxiang; Shao, Dingfu; Guo, Jinming; Liu, Kai; Lin, Yuanhua; Yi, Di; Ce Wen Nan,

准外延AlScN铁电膜

150°C低温生长

利用TMDC缓冲层实现高结晶度与易剥离自支撑，扩展集成灵活性。

Yiming, Yang · Li, Zonglin · 张弢 · Guo, Xiaoyan · Yifeng, Du · Jingrui, Cui · 朱煜 · Shi, Run · Li, Chao · 马静 · Nan, Tianxiang · Shao, Dingfu · Guo, Jinming · 刘凯 · 林元华 · 易迪 · Ce Wen Nan,

Advanced Materials 2026

技术优势

150°C低温生长

高剩余极化

低漏电流

快速开关动力学