氧化铪铁电薄膜

离子束精确调控铁电性

通过聚焦离子束注入和快速热退火在氧化铪薄膜中选择性诱导稳定铁电性,实现铁电畴的精确调控。

Yang, Chen · Yan, Fei · Changxing, Zhang · 黄进 · 廖佳佳 · 曹可 · Shijie, Jia · Yu-Xin, Fan · 廖敏 · 周益春

Journal of Materials Science and Technology 2026

参数信息

退火窗口
550–700 °C
退火温度下限
550 °C
退火温度上限
700 °C

技术优势

退火窗口宽

在 550–700 °C 的宽范围内均能保持稳定铁电行为,降低了对退火条件的敏感度。

精度高

聚焦离子束可实现局部选择性注入,精确调制薄膜特定区域的铁电性。

方法新

不同于传统掺杂调控,离子束注入提供了操控正交相稳定性的新途径,且由 Monte Carlo 模拟指导。

应用场景