D型GaN MIS-HEMT
栅极抗6A脉冲
栅极正反向ESD应力表现出不对称鲁棒性,源于正反向栅电容差异。
Liu, Chao · Shi, Yijun · He, Zhiyuan · Xin, Yajie · 陈万军 · 孙瑞泽 · 张波
IEEE Transactions on Electron Devices 2023
参数信息
- HBM D-to-G耐压
- 2600 V
- HBM S-to-G耐压
- 1000 V
- S-to-D和D-to-S TLP耐压
- 1000 V
- S-to-D和D-to-S HBM耐压
- 8000 V
技术优势
D-to-G方向耐压更高
由于栅极到漏极的距离较长,器件在D-to-G方向的HBM耐压为2600 V,高于S-to-G方向的1000 V。
S-to-D和D-to-S耐压极高
在源漏之间施加脉冲时,器件在TLP测试中1000 V和HBM测试中8000 V下均未失效,显示出很强的抗ESD能力。
应用场景
- GaN功率器件:评估GaN功率器件的ESD可靠性并指导栅极保护设计
- 功率半导体应用:为功率电路的ESD防护提供器件级鲁棒性数据
- 毫米波通信:在毫米波应用中考虑ESD对GaN器件性能的影响
- 精密仪器与测量:用于精密仪器中功率器件的静电防护设计