EQE超23%
利用压力辅助热退火工艺制备的高度有序量子点薄膜，兼具低粗糙度与优异电学性能，为高效稳定的喷墨打印QLED奠定基础。
Wei, Changting · 徐波 · Zhang, Meng · Su, Zhenhuang · Jiawei, Gu · Guo, Wenrui · Gao Xingyu · 苏文明 · 崔铮 · Jeon, Seokwoo · Zhiyong, Fan · 曾海波
eScience 2024
PTA工艺使打印量子点薄膜有序堆积、低粗糙度，器件EQE超过23%，逼近旋涂器件水平。
红、绿器件T50寿命分别达343,342小时和超过1,500,463小时@100 cd m⁻²，远超以往喷墨打印QLED。
PTA提供一种简单有效的后处理手段，使打印薄膜具有优异的光致发光和电学性能。