复合氧化物屏障

900 °C 抗氧增重降 67%

通过Ta–Nb–B–Si协同合金化重构Cr2O3基氧化物屏障，形成CoMoB/SiO2界面层和近单一Cr2O3层，显著抑制氧传输。

Weilun, Deng · Xiang, Li · Yuanxiang, Wang · 操光辉 · 郑红星

Corrosion Science 2026

具体参数

质量增益
{'zh': '0.26', 'en': '0.26'} mg/cm2
氧扩散势垒
{'zh': '3.56', 'en': '3.56'} eV
反应指数
{'zh': '15.76', 'en': '15.76'}
氧化速率常数
{'zh': '6.84 × 10−12', 'en': '6.84 × 10−12'} mg^n·cm−2n·h−1
界面错配度
{'zh': '3.43', 'en': '3.43'} %
界面错配度
{'zh': '0.42', 'en': '0.42'} %

技术优势

增重直降67%

B和Si的加入重构了氧化层，使质量增益从0.81 mg/cm²降至0.26 mg/cm²。

氧扩散势垒翻倍

间隙B原子将氧扩散势垒从1.97 eV提升至3.56 eV，大幅抑制氧传输。

界面扩散被阻断

CoMoB相与基体和Cr₂O₃形成共格/半共格界面，减少相界快速离子传输。

抑制尖晶石生成

CoMoB形成消耗Co，抑制(Co,Ni)Cr₂O₄形核；非晶SiO₂进一步限制缺陷传输。

应用场景