Ta掺杂CrSi₂热电材料

晶格热导率近超低

通过分散的富Ta区和Ta取代引入晶格畸变与应变场,强化声子散射,使晶格热导率降至超低水平。

段兴凯 · Liu W.-D. · Jiang, Yuezhen · Ke, Xiaoli · Hu, Konggang · Shi, Xiaolei · Chen, Zhigang

Scripta Materialia 2023

具体参数

晶格热导率
{'zh': '0.87', 'en': '0.87'} W m⁻¹ K⁻¹
功率因子
{'zh': '7', 'en': '7'} μW cm⁻¹ K⁻²
热电优值
{'zh': '0.28', 'en': '0.28'}

技术优势

晶格热导率降至超低

分散的富Ta区和Ta取代引起晶格畸变和应变场,显著增强声子散射,将晶格热导率压低至~0.87 W m⁻¹ K⁻¹(约750 K),接近非晶极限。

功率因子保持较高

在晶格热导率大幅降低的同时,功率因子仍达到~7 μW cm⁻¹ K⁻²(约750 K),电输运性能未因掺杂而明显劣化。

热电优值与同类最佳相当

最终热电优值达到0.28(约750 K),与已报道的CrSi₂基热电材料中最好水平相当,证明掺杂策略的有效性。

应用场景