晶格热导率近超低
通过分散的富Ta区和Ta取代引入晶格畸变与应变场,强化声子散射,使晶格热导率降至超低水平。
段兴凯 · Liu W.-D. · Jiang, Yuezhen · Ke, Xiaoli · Hu, Konggang · Shi, Xiaolei · Chen, Zhigang
Scripta Materialia 2023
分散的富Ta区和Ta取代引起晶格畸变和应变场,显著增强声子散射,将晶格热导率压低至~0.87 W m⁻¹ K⁻¹(约750 K),接近非晶极限。
在晶格热导率大幅降低的同时,功率因子仍达到~7 μW cm⁻¹ K⁻²(约750 K),电输运性能未因掺杂而明显劣化。
最终热电优值达到0.28(约750 K),与已报道的CrSi₂基热电材料中最好水平相当,证明掺杂策略的有效性。