高纯纳米In₂O₃

纯度99.98%

从高杂质废ITO靶材直接回收，HCl浸出选择性抑制Mo溶解，硫化沉淀与协同萃取高效分离In/Sn/Al。

刘兵兵 · Suying, Dong · Peiying, Li · Su, Shengpeng · Wenjuan, Wang · Yang, Shuzhen · 黄艳芳 · Sun, Hu · 韩桂洪

Separation and Purification Technology 2026

具体参数

纯度
{'zh': '99.98', 'en': '99.98'} %
总In回收率
{'zh': '77.8', 'en': '77.8'} %
HCl浸出In提取率
{'zh': '94', 'en': '94'} %
HCl浸出Mo溶解率
{'zh': '13', 'en': '13'} %

技术优势

Mo溶解被抑制

HCl浸出选择性地将Mo的溶解抑制在13%以下，同时提取94%以上的In、Sn和Al，实现Mo与In/Sn/Al的有效分离。

In/Sn分离

通过选择性硫化物沉淀实现In与Sn的分离，克服了In回收中最大的挑战。

In/Al分离

TOA/TBP协同萃取专门用于In与Al的分离，进一步提高产品纯度。

产品纯度99.98%

最终In₂O₃产品纯度为99.98%，可直接用于高纯氧化铟相关应用。

应用场景