单晶金刚石FIB取向刻蚀

110面刻蚀效率更高

揭示单晶金刚石在聚焦镓离子束加工中的取向依赖性,为高精度纳米制造提供工艺指导。

Yu, Yang · 王全龙 · Lun, Chen · 马成龙 · Xing, Zheng · Jing-hao, Shi

Diamond and Related Materials 2025

技术优势

110面刻蚀效率更高

在相同加工条件下,(110)取向表现出更高的溅射效率,有助于缩短加工时间并提高产量。

损伤机制一目了然

拉曼光谱和分子动力学模拟一致表明,(110)取向更易发生非晶化和石墨化,从而解释了其高损伤敏感性。

原子机理得到阐明

分子动力学模拟揭示,Ga离子在(110)取向中遇到的阻力较小,穿透更深,损伤区域更大。

应用场景