超高光产额
通过AgI表面处理钝化Cu掺杂缺陷，显著增强辐射复合通道，实现高性能X射线成像。
Bilal M. · Kun, Zhou · He, Tengyue · Lin, Shuyi · Uddin, Ahmed · Yin, Jun · 何青泉 · Omar F., Mohammed · 潘军
Advanced Functional Materials 2025
AgI处理显著增强了辐射通道，使光产额提升至超过55 000 photons MeV⁻¹，远超现有商业闪烁体。
衰减时间缩短至约426.4 ns，有效抑制余辉，适用于高速动态成像。
闪烁体薄膜的X射线成像分辨率达到18.5 lp mm⁻¹，可清晰分辨微小结构。
薄膜具有增强的耐久性和易加工性，有利于大规模生产柔性闪烁屏。