化学增强抛光液

抛光速率翻倍

面向碳化钨-钴合金的一种化学增强剪切增稠抛光液，通过优先去除钴粘结剂实现表面粗糙度低于10 nm的高效抛光。

Wang, Jiahuan · Zewei, Tang · Goel, Saurav · Yu, Zhou · Yanfei, Dai · 王金虎 · He, Qiankun · 袁巨龙 · Lyu, Binghai

Journal of Materials Research and Technology 2023

参数信息

表面粗糙度

<10 nm

材料去除速率提升倍数

2

技术优势

抛光速率翻倍

芬顿试剂优先与钴粘结剂反应，使其优先去除，从而将材料去除速率提高一倍。

表面粗糙度<10 nm

采用化学增强剪切增稠抛光可获得低于10 nm的表面粗糙度，满足原子级表面精加工要求。

工艺简单

在传统剪切增稠抛光液中加入芬顿试剂即可，无需对设备进行改造。

应用场景

• 硬质合金工具：快速获得原子级光滑表面，延长刀具寿命并改善切削性能。
• 精密抛光：替代传统机械抛光，在保持精度的同时将效率提高一倍。
• 微钻加工：用于微钻复杂形状表面处理，获得均匀的低粗糙度。