2000 °C抗烧蚀
通过原位形成致密HfO₂-SiO₂氧化层,有效阻隔高温氧化气体侵蚀基体。
Lyu, Yang · Zhihong, Han · 程源 · 赵广东 · 周善宝 · Zhang, Xinghong · 陈贵清 · 韩文波
Ceramics International 2024
原位生成致密HfO₂-SiO₂氧化层