Cu-Ta抗电弧烧蚀合金

抗电弧烧蚀

通过激光定向能沉积制备，Ta以球形颗粒弥散分布，显著优于传统CuCrZr的抗电弧烧蚀性能。

Tang, Congwen · 王邓志

2024

参数信息

电弧侵蚀区域比率

5.48 %

技术优势

抗电弧烧蚀

电弧侵蚀区域比率为5.48%，远低于CuCrZr基体的20.50%，显著延长电接触部件寿命。

球形Ta弥散

Ta以球形颗粒形式均匀分布在Cu基体中，有利于均匀承受电弧热冲击，避免局部烧蚀。

应用场景

• 电接触材料：替代CuCrZr电接触材料，降低电弧侵蚀，延长开关寿命。
• 高压开关：用作高压开关触头材料，提升抗电弧烧蚀能力。
• 抗电弧涂层：作为抗电弧涂层材料，保护基体免受电弧侵蚀。