RB-SiC抛光装置

原位光催化增效

将紫外光源集成至抛光工具内,在毫米级液膜中构建受限光催化区域,实现在工件表面原位生成羟基自由基,并以固定磨粒实现延性域去除。

郭晓光

International Journal of Mechanical Sciences 2026

技术优势

表面粗糙度 Sa 7.15 nm

毫秒级液膜厚度

原位生成羟基自由基