单晶氮化镓抛光液

去除率提升3倍

以甘氨酸替代水作为摩擦化学机械抛光介质，在单晶氮化镓衬底上实现表面质量与去除率的同步提升。

柯聪明 · Shoulin, Liu · Zhang, Zongnan · Yiao, Pang · 吴雅苹 · Luo, Qiufa · 吴跃勤 · 徐仰立 · 陆静

Applied Surface Science 2024

具体参数

材料去除率提升

{'zh': '3', 'en': ''} 倍

晶格畸变

{'zh': '0.4', 'en': ''} Å

甘氨酸转移电荷

{'zh': '0.202', 'en': ''} e