羟基功能化超薄NiOx界面层

电池效率超30%

用水介导ALD低温制备的超薄NiOx界面层富含羟基，能均匀吸附自组装单分子层并促进高质量钙钛矿结晶，从而有效抑制埋底界面非辐射复合。

Xiao, Jia · Chang, Zhen · Kai, Wang · Li, Jianxun · Shulin, Wang · Hui, Wang · Rong, Shiqi · 董庆顺 · Guozhen, Liu · 佟瑶 · Siyi, Liu · 李东栋 · Liu, Shengzhong Frank

Journal of Materials Chemistry A 2025

参数信息

钙钛矿太阳能电池效率

23.20 %

叠层电池效率

30.38 %

NiOx薄膜厚度

3 nm

技术优势

低温工艺，无需后处理

水介导ALD过程同时省去了氧气/臭氧前驱体和常规方法所需的高温后退火。

富含羟基，SAM更均匀

薄膜高密度的化学吸附羟基增强了SAM的均匀性和稳定性，从而促进高质量钙钛矿结晶。

抑制埋底界面复合

通过改善界面性质，有效抑制了埋底界面处的非辐射复合，从而实现更高效的空穴提取。

应用场景

• 钙钛矿太阳能电池：作为空穴传输层，减少界面非辐射复合，提升单结电池效率。
• 钙钛矿/硅叠层电池：用于叠层电池底电池界面修饰，实现30%以上叠层效率。
• 太阳能电池界面工程：提供均匀SAM吸附基底，优化埋底界面质量。
• 原子层沉积薄膜：低温ALD工艺，无需氧气/臭氧和高温退火，易于规模化。