氮化铝陶瓷抛光片

75分钟粗糙度7.6 nm

共价键抛光盘比金属键抛光盘更易驱动AlN晶体偏离平衡，促进界面化学反应，实现高效材料去除。

Liang, Zhao · Yanhuan, Wang · Rongpei, Wang · Zhong, Xia · Wang, Jiahuan · Han, Yunxiao · Zhao, Tianchen · 江亮 · Lyu, Binghai

Tribology International 2026

参数信息

表面粗糙度

7.634 nm

技术优势

共价键盘更易驱动反应

共价键晶体化学键更稳定，在滑动中更易使AlN晶体偏离平衡态，从而促进界面化学反应。

水是高效去除的关键

无论使用Fe探针还是Al₂O₃探针，水都是实现AlN抛光中高效材料去除的关键介质。

75分钟达7.634 nm

Al₂O₃陶瓷盘配合水，抛光75分钟后表面粗糙度Sa降至7.634 nm。

应用场景

• 电子封装陶瓷基板：提供高表面质量的AlN基板，提升电子封装可靠性。
• 半导体抛光：实现AlN晶圆的高效超光滑抛光，替代传统抛光液。
• 精密表面加工：以水为介质，兼顾加工效率与表面质量，简化精密抛光工艺。