对称中心匹配定位算法

叠层测量0.13 nm重复性

基于对称中心匹配的定位算法，将叠层目标中心定位转化为全局相关优化问题，在噪声与模糊条件下精度优于现有方法。

Liu, Wuhao · 宋茂新 · Shi, Shuming · 凌明椿 · Guan, Hengrui · Wang, Jun · 洪津

Micromachines 2026

参数信息

仿真定位精度

0.00013 pixels

噪声模糊下重复性精度

0.012 pixels

物方重复性精度

0.129 nm

物方重复性精度

0.144 nm

单帧处理时间

0.07 s

技术优势

定位精度够用有余

实验物方重复性精度在X/Y方向分别为0.129/0.144 nm(3σ)，优于先进节点0.32 nm的测量不确定度要求，无需额外补偿即可满足工艺需求。

抗噪抗模糊

即使在严格噪声和模糊条件下，重复性精度保持在0.012像素(3σ)以内，算法对成像质量下降不敏感，适合产线环境。

速度也快

平均单帧处理时间约0.07秒，满足高吞吐量要求，不会成为产线节拍的瓶颈。

应用场景

• 先进光刻套刻测量：直接提升套刻测量精度，满足先进节点对0.32 nm不确定度的严苛需求。
• 半导体量测设备：可集成到现有套刻设备，增强定位模块在噪声下的鲁棒性。
• 晶圆制造在线检测：0.07 s单帧处理速度满足在线检测吞吐量要求，不拖慢产线。
• 高精度视觉定位：提供亚像素级对称中心定位方法，可作为高精度视觉定位的通用模块。