高迁移率纯有机半导体单晶

低剂量X射线成像

通过维度调控将二维结构转化为三维结构,增强π-π堆叠,实现高空穴迁移率与稳定低剂量X射线探测。

Jiahao, Geng · Ma, Donghao · 徐猛 · Zhou, Long · Zixuan, Jia · 郑炜 · Xinkai, Peng · Li, Chen · Zhao, Dou · 介万奇 · 徐亚东

Nature Communications 2025

参数信息

空穴迁移率
19.91 cm² V⁻¹ s⁻¹
暗电流漂移
1.14 × 10⁻¹⁰ nA cm⁻¹ s⁻¹ V⁻¹
X射线检测限
4.22 nGy_air s⁻¹
成像分辨率
1.6 lp mm⁻¹

技术优势

迁移率大幅提高

通过将-CN取代为-COOCH₃,二维结构转变为三维结构,增强了分子间π-π堆叠,空穴迁移率达到19.91 cm² V⁻¹ s⁻¹。

暗电流漂移极低

在100 V mm⁻¹电场下,暗电流漂移仅为1.14×10⁻¹⁰ nA cm⁻¹ s⁻¹ V⁻¹,有助于长时间稳定工作。

无毒低剂量成像

材料不含Pb、Hg等有毒元素,在低剂量(58.76 μGy_air s⁻¹)下实现1.6 lp mm⁻¹分辨率成像,适合生物医学应用。

应用场景