抛光效率与表面质量兼得
一种经摩擦增强化学抛光处理的氮化铝陶瓷，在保持高材料去除率的同时实现了纳米级表面粗糙度，适用于对散热和表面质量要求严苛的功率电子器件。
Liang, Zhao · Ke, Mingfeng · Wang, Jiahuan · Feng, Kaiping · Zhao, Tianchen · Lyu, Binghai
Applied Surface Science 2025
引入摩擦作用增强了化学反应活性，使材料去除率达到3.3198 μm/h，显著高于常规化学抛光。
在保持高去除率的同时，表面粗糙度Ra降至8.523 nm，满足精密应用需求。
通过摩擦增强化学抛光方法，解决了传统抛光中效率与表面质量难以兼得的问题。
采用第一性原理计算了AlN在水环境中的反应吉布斯自由能，验证了化学反应的可行性。