亚10nm快速成形
利用电化学钝化实现蚀刻停止的精确控制，可高效率制备尺寸可控的亚10nm硅纳米孔，显著改善现有三步湿法蚀刻工艺的可靠性和可扩展性。
Hong, Hao · Lei, Xin · 汤文军 · 张国祺 · Sarro, Pasqualina Maria · 刘泽文
Microsystems and Nanoengineering 2025
通过电化学钝化动态控制氧化层生长，蚀刻停止在4秒内即可实现，显著提升工艺效率。
通过调节钝化电位精确调控氧化层厚度，纳米孔尺寸收缩精度优于2 nm，且可进一步提升。
该方法具有可扩展性，有望实现高密度空气绝缘单片集成电路的成本效益生产。