铜面缓蚀率超八成
相比同类缓蚀剂，TAZ在铜和钴抛光液中均能显著提升腐蚀活化能，且在动态抛光过程中通过润滑吸附层同时抑制材料损失和降低摩擦系数。
Jia-Hui, Ma · Huang, Yating · Cheng, Jie · Qinhua, Miao · Jinchi, Chen · 葛世荣
Corrosion Science 2026
在2 mM TAZ浓度下，铜的缓蚀效率达到80.97%，显著优于相同条件下钴的30.68%（10 mM）。
TAZ显著提高表观腐蚀活化能：铜从13.51升至44.78 kJ·mol⁻¹，钴从13.84升至20.98 kJ·mol⁻¹，使腐蚀反应更难发生。
TAZ在动态抛光中形成润滑吸附层，使摩擦系数降低超过40%，并抑制材料损失。
KPFM和DFT计算证实，即使低浓度TAZ也能显著提高铜表面的功函数，增强抗腐蚀性。