21 mV低过电位
通过非界面氢溢流机制,将整个析氢过程限制在Ni17W3相内,消除了界面能垒并优化了质子迁移路径。
Xie, Song · Cao, Shuang · 苗亚萍 · Xiong, Liwei · 高标 · 张旭明 · 姚永超 · 彭祥 · 孙旭平
Nature Communications 2026
应变梯度和定向电子转移将整个析氢过程限制在Ni17W3相内,绕过了界面质子迁移步骤,从而解除了脱附瓶颈。
法拉第效率高达98.65%,析氢反应中几乎无副反应或电子损失,能耗利用充分。