亚像素级中心定位
通过可定制形状拟合，实现对晶圆键合中复杂覆盖目标中心的高精度定位。
Rui, Wang · Yixian, Zhu · 鲁森 · 杨开明 · Yu, Zhu
IET Image Processing 2025
算法在仿真中对不同程度的高斯噪声和模糊均保持高精度，减少了实际图像质量波动对测量的影响。
通过可定制的形状参数化，算法可拟合具有圆角等非理想几何特征的套刻目标，定位中心不受形状偏差影响。
在电子束蚀刻制造的套刻目标对阵列上实测得到 ±0.04 像素（±6.9 nm）的定位精度，证明算法能够满足晶圆级高精度对准需求。