氮化RB-SiC表面

硬度升反射率降95%

纳秒激光氮化同步提升RB-SiC表面硬度并大幅降低反射率，为光电与结构应用提供一体化处理表面。

Hong, An · Qian, Yongfeng · 张志宇 · 黄虎 · Yan, Jiwang

Composites Part A: Applied Science and Manufacturing 2024

参数信息

表面硬度提升幅度

44.6 %

反射率降低幅度

95.2 %

技术优势

反射率降95%

激光氮化在表面形成氮化硅，显著降低反射率，替代传统减反射涂层。

硬度升44.6%

生成的Si基氮化物是硬度提升的主要原因，增强表面耐磨性。

一步同步提升

在同一个激光氮化过程中同时获得高硬度和低反射率，无需分开处理。

应用场景

• 航空光学窗口：低反射表面提升光学窗口透过率，无需额外镀膜。
• 精密光学元件：氮化表面同时提供高硬度和低反射，适合精密光学元件基底。
• 耐磨结构件：表面硬度提升44.6%，延长耐磨部件寿命。