缺陷密度降超99%
一种由离子轰击和退火两步工艺处理的过渡金属二硫化物表面，缺陷密度低于传统退火方法可达到的水平。
Hsin-Hsiu, Chen · Kawakami, Naoya · Hsieh, Wei · Kuo, Chun Hsiang · Chan, Yu Jiun · Liao, Wei Meen · Kuo, Po-Chih · Lue, Chin-Shan · Hsu, Yao Jane · Lien, Der Hsien · Hu, Chenming · Chou, Jyh Pin · Luo, Mengfan · Lin, Chun Liang
ACS Applied Materials & Interfaces 2023
只需要氩离子轰击和退火，不需要专门的昂贵设备或苛刻的生长控制。