研磨压缩各显不同响应
通过氢键协同效应，该有机晶体在研磨和压缩下分别呈现量子产率升高和发射红移，实现两种机械刺激下的解耦光学响应。
Wang, Weibin · Yanbing, Ke · Jiaju, Liang · Yongbo, Wei · Yang, Qing · Wang, Yixuan · Xie, Lijun · 杨新一 · 邹勃
ACS Materials Letters 2025
氢键协同效应分别调控分子间π-π堆积和分子内轨道耦合，使研磨和压缩产生不同的光学变化。
研磨使量子产率从1.87%升至22.2%，弱C-H···π作用调节分子轨道耦合，使非辐射跃迁减少。
压缩使发射从480 nm红移至550 nm，强C-H···O作用促进更紧密的分子间π-π堆积，降低能隙。
实验与计算证实两种弱相互作用分别调控不同光学性质，为设计多刺激响应材料提供依据。