共自组装界面单分子层

界面稳定 效率26%

一种通过共自组装策略形成的修饰单分子层，能抑制NiOx/钙钛矿界面的有害氧化还原反应，并消除运行中产生的缺陷。

Qin, Zhenzhen · Chen, Mengjiong · Ziyang, Zhang · 王言博 · 韩礼元

Advanced Functional Materials 2026

具体参数

功率转换效率
{'zh': '26.03', 'en': '26.03'} %
1200小时运行后性能保持率
{'zh': '92.80', 'en': '92.80'} %

技术优势

抑制有害界面反应

共自组装单分子层中的烟酸衍生物作为氧化还原介体，将Ni4+还原，阻止钙钛矿降解。

消除运行中缺陷

氧化还原介体同时触发Pb0和I0缺陷的消除，维持器件性能。

应用场景