玻璃微透镜阵列

氢氧焰抛光消除飞秒激光加工残留台阶与纳米粗糙度，实现表面无损超光滑。

Jin, Tang · Zhang, Yi · Xingzhan, Li · 王倩 · Zhou, Peng · Zhang, Linfeng · He, Quanpeng · 邓辉

Journal of Materials Processing Technology 2024

参数信息

表面粗糙度

<0.2 nm

形状误差

±0.5 μm

技术优势

不损伤形状精度

通过氢氧焰触发粘弹性流动，仅熔化微尺度凸起，不改变宏观轮廓，形状误差可控制在±0.5 μm。

表面粗糙度低于0.2 nm

通过优化热功率，使纳米级形貌快速平滑，得到超光滑表面。

不引入羟基

抛光过程避免水或含氢气氛导致的表面化学改性，保持玻璃原有特性。

适合多种形状

圆柱和球形微透镜阵列均获得类似结果，工艺通用性强。

应用场景

• 光学成像系统：可集成到成像镜头中，减少散射、提高分辨率。
• 激光整形：用于激光整形，获得均匀光斑。
• 精密光学制造：替代传统抛光，高效加工微小光学元件。
• 微光学元件：提升微透镜表面质量，满足高端光学需求。