NbMoTaW涂层

辐照硬化率更低

高熵合金涂层在离子辐照下晶粒稳定，位错环演化迟缓，硬化率低于同类VCrTaW涂层。

Luo, Hongtai · 龙斌 · Lu, Shenghui · 郭立平 · 罗凤凤 · Lin, Wenbin · Cao, Junjie · Yin, Z. P. · Zhao, Peili

Surface and Coatings Technology 2023

具体参数

辐照剂量

{'zh': '50', 'en': '50'} dpa

辐照剂量

{'zh': '100', 'en': '100'} dpa

技术优势

晶粒稳定

辐照后晶粒结构保持稳定，涂层与基体结合紧密，没有出现开裂或剥落，确保了长期服役的可靠性。

延缓位错环演化

高熵合金涂层显著提高了位错环完全演化所需的辐照剂量，意味着需要更高的剂量才能达到相同的缺陷状态，从而延长了材料的使用寿命。

硬化率更低

与VCrTaW涂层相比，NbMoTaW涂层在50和100 dpa下的辐照硬化率更低，表明其抗辐照硬化能力更强，材料性能退化更慢。

应用场景

• 核反应堆包壳：作为包壳涂层，在高温高剂量辐照下保持稳定，降低硬化，延长燃料元件寿命。
• 辐照屏蔽材料：提供耐辐照表面层，延缓缺陷演化，可用于屏蔽结构件的表面防护。
• 铅基快堆结构材料：针对铅基快堆高温高剂量环境，涂层抗辐照性能优于同类，可用于结构材料优化。
• 抗辐照涂层：通过高熵效应抑制辐照损伤，提供比传统涂层更低的硬化率和更稳定的微观结构。