光刻工艺窗口确定框架

缺陷感知优化

通过视觉记忆编码和缺陷感知优化，利用SEM图像视觉特征精确确定光刻工艺窗口。

Jiwei, Shen · Lyu, Shujing · Lu, Yue

IEEE Transactions on Circuits and Systems for Video Technology 2024

技术优势

抗噪能力强

去噪模块采用Transformer架构，有效降低SEM图像噪声的影响，提升下游任务利用图像信息的效率。

分类更精准

视觉记忆编码器将每个SEM图像作为查询，利用邻近图像作为键值，实现精确的光刻质量分类。

结果更可靠

缺陷感知优化模块根据SEM图像中识别的缺陷调整工艺窗口，提高结果的可靠性。

应用场景

• 光刻工艺窗口优化：自动确定最优焦点和曝光剂量范围，减少试错成本。
• SEM图像缺陷检测：从SEM图像中自动识别印刷缺陷，降低人工检查负担。
• 光刻生产质量控制：嵌入产线实现实时质量监控，提升良率和可靠性。