溅射Mn-Co-Ni-O薄膜

近红外高响应度

200 °C低温沉积的MCNO薄膜,构建MSM结构后获得885 nm近红外探测的优异光响应。

杨威嘉 · Liu, Lihua · Jijin, Shi · Liang, Chuangming · Zhao, Jingjing · 合性 · 宋伟东 · 罗坚义 · 王海燕

Infrared Physics and Technology 2024

参数信息

比探测率
3.74 × 10⁸ Jones
响应度
0.23 A/W
开关比
13.15
响应/恢复时间
31.2/20.4 ms

技术优势

低温制备,TCR更高

200 °C生长的薄膜具有最大的TCR值−6.42%/K,远优于高温生长的薄膜,从而提升了光响应。

近红外响应高且快

在885 nm光照、−15 V偏压下,比探测率达到3.74×10⁸ Jones,响应/恢复时间仅31.2/20.4 ms,实现灵敏且快速的光探测。

开关比高,信噪比好

200 °C器件的开关比达13.15,能够在885 nm近红外信号下有效区分明暗状态。

应用场景