溅射Mn-Co-Ni-O薄膜

近红外高响应度

200 °C低温沉积的MCNO薄膜，构建MSM结构后获得885 nm近红外探测的优异光响应。

杨威嘉 · Liu, Lihua · Jijin, Shi · Liang, Chuangming · Zhao, Jingjing · 合性 · 宋伟东 · 罗坚义 · 王海燕

Infrared Physics and Technology 2024

具体参数

比探测率
{'zh': '3.74 × 10⁸', 'en': '3.74 × 10⁸'} Jones
响应度
{'zh': '0.23', 'en': '0.23'} A/W
开关比
{'zh': '13.15', 'en': '13.15'}
响应/恢复时间
{'zh': '31.2/20.4', 'en': '31.2/20.4'} ms

技术优势

低温制备，TCR更高

200 °C生长的薄膜具有最大的TCR值−6.42%/K，远优于高温生长的薄膜，从而提升了光响应。

近红外响应高且快

在885 nm光照、−15 V偏压下，比探测率达到3.74×10⁸ Jones，响应/恢复时间仅31.2/20.4 ms，实现灵敏且快速的光探测。

开关比高，信噪比好

200 °C器件的开关比达13.15，能够在885 nm近红外信号下有效区分明暗状态。

应用场景