p-FPEAI 抗溶剂添加剂

钝化双界面、缺陷与应变同降

在钙钛矿结晶过程中掺入该添加剂,可同时改善上下界面,降低缺陷复合和残余应变,使铅锡钙钛矿电池的开路电压和填充因子显著提升,而无需引入其他前驱体添加剂。

Zhang, Ting · 钱峰 · 李剑 · Zecheng, Diao · Yuan, Shihao · Zheng, Hualin · Wang, Yafei · Gong, Yanli · Chen, Zhi David · 李世彬

ACS Applied Materials & Interfaces 2024

参数信息

光电转换效率
20.14 %
开路电压
0.84 V
存放后效率保持率
92 %

技术优势

电压损失更小

添加剂钝化上下界面,减少缺陷密度和非辐射复合,开路电压提高至 0.84 V。

存放更稳定

未封装器件在氮气中存放一个月后仍保持初始效率的 92%,而对照器件仅剩 30%。

工艺无需改动

直接将 p-FPEAI 加入抗溶剂乙酸乙酯中,在钙钛矿结晶时滴加即可,无需额外前驱体添加剂。

应变同步释放

添加剂促进钙钛矿薄膜的应变松弛,改善薄膜质量,进一步提升器件性能。

应用场景