界面能最低
通过第一性原理确定Hf-B中心堆叠界面具有最高稳定性和最强结合，为超硬多层膜设计提供新选择。
Yang, Tianxing · 韩秀君 · Li, Wei · 陈小鸿 · 刘萍
Vacuum 2023
Hf-B中心堆叠界面在B-rich条件下界面能为−0.60 J/m²，是12种候选界面中最稳定的，理论上解释了实验中150 nm调制周期获得最佳力学性能的原因。
Hf-B中心堆叠界面粘附功达6.33 J/m²，界面结合最强，有利于多层膜整体力学性能。
界面处Hf-d与B-p轨道杂化形成共价键并伴有离子性，为调控界面性能提供电子结构依据。