高剩余极化
在硅衬底上实现高剩余极化的铁电AlScN薄膜，兼具出色耐疲劳与数据保持特性。
Wenxin, Sun · 周久人 · Liu, Ning · Zheng, Siying · Xiaoxi, Li · Li, Bochang · 刘艳 · Yue, Hao · 韩根全
IEEE Electron Device Letters 2024