耐磨降摩减半
原位合成的Mo-Si-B涂层以微米级枝晶间共晶组织显著提升硬度与耐磨性,并借助自润滑氧化膜大幅降低摩擦系数。
Taikang, Shi · 李尧 · Kuo, Zhang · Meng-Yang, Li · Yefei, Geng · 周鑫 · Guo, Ting · 郭亚杰 · Dang, Xiaofeng
Tribology International 2025
涂层与纯Mo基体相比,摩擦系数降低72.4%,得益于磨损过程中形成的自润滑氧化膜。
磨损率比纯Mo基体降低39.8%,归因于涂层中硬质金属间化合物的存在。
枝晶间共晶组织的纳米硬度约为α-Mo相的2.4倍,使涂层整体显微硬度显著提高。
采用成本更低的Mo、Si和B4C混合粉末即可原位合成涂层,无需使用昂贵的预合金粉末。