混合量子退火遗传调度算法

排程良率显著提升

将量子退火变异机制与传统遗传算法结合，并整合光罩调配，为TFT-LCD阵列光刻排程提供可行解。

Chia-An, Chen · Chien, Chenfu · Kuo, Hsuan

Computers and Industrial Engineering 2025

技术优势

量子退火变异加速寻优

通过量子退火变异机制，可在有限计算时间内获得理想解，避免传统遗传算法早熟收敛。

整合光罩派发

将辅助资源光罩的分配与排程整合，有效处理多面板设计间的光罩共享，提升整体效率。

实用可行性

在领先的TFT-LCD阵列制造厂进行实证研究，结果显示开发的解决方案优于现行做法和传统方法，并已实际实施。

应用场景

• 半导体光刻排程：提供一种整合光罩派发的智能排程算法，直接用于半导体光刻工序的排程优化。
• TFT-LCD阵列制造：针对TFT-LCD阵列制造中的光刻瓶颈，优化光罩分配与机台调度，提高产线效率。
• 制造排程优化：提出量子退火与遗传算法混合的优化方法，为制造排程问题提供高效求解新途径。