钠镥氟纳米闪烁体

X射线灵敏度6倍

通过控制能量漏斗动力学实现持久辐射发光和可调发射，用于高分辨率X射线成像。

Wu, Qinxia · 许鑫琦 · Li, Xiaokun · Hong, Zhongzhu · Chen, Xiaofeng · Yang, Zhijian · Ou, Xiangyu · 谢莉莉 · 何聿 · 陈秋水 · 杨黄浩

Angewandte Chemie - International Edition 2024

参数信息

陷阱深度
0.66–0.96 eV
陷阱密度
2.38×10⁵–1.34×10⁷ cm⁻³
辐射发光波长
520–580 nm
X射线灵敏度提升
6 ×
X射线成像分辨率
22 lp/mm
光学记忆时长
30 day
热释光温度
313–403 K

技术优势

陷阱深度可调

通过改变Gd³⁺掺杂量，陷阱深度可在0.66至0.96 eV范围内连续调节，从而控制电子释放时间。

释放时间可控

通过调节陷阱深度和密度，被捕获电子的释放时间可从数秒延长至30天，满足不同应用需求。

发射波长可调

辐射发光波长可在520至580 nm范围内定制，可匹配不同探测器的响应。

高分辨率成像

制备的闪烁屏实现了22 lp/mm的高分辨率X射线成像，且X射线灵敏度提高6倍。

应用场景