FeNi/N掺杂碳涂层

优于贵金属产氧

自支撑多孔涂层实现了极低过电位和稳定产氧,为电解水制氢提供了一种廉价高效的阳极方案。

姜艳丽 · Peng-Cheng, Dai · Wang, Jiangkang · 夏琦兴 · 姚忠平 · 姜兆华

Surface Technology 2023

参数信息

析氧过电位
0.20 V
Tafel斜率
38.3 mV/dec
电荷转移电阻
1.75 Ω
涂层厚度
145 μm

技术优势

不用贵金属

FeNi合金与N掺杂碳协同作用,使涂层产氧性能优于贵金属IrO2和RuO2。

超低过电位

在10 mA/cm²下过电位仅0.20 V,显著降低电解水能耗。

长期稳定

在20 mA/cm²下连续运行48 000 s过电位无明显变化,适合长时间电解。

可直接使用

涂层与基底结合紧密,自支撑结构可直接作为电解池阳极,无需额外负载。

应用场景